Monumento 11M
SITUACIÓN: Madrid. España FECHA:2009 TIPO:ETFE FUNCIÓN:<br>Cultural SUPERFICIE:50m2 GEOMETRÍA:Sinclástica Y Anticlástica DESCRIPCIÓN:Cubierta presostática de ETFE transparente impreso bajo lucernario del monumento a las víctimas del 11M: desmontaje, reparación y sustitución parcial, reinstalación ARQUITECTURA:FAM INGENIERÍA:SCHLAICH CONSTRUCCIÓN:Hightex+Bat Spain