Monumento 11M

SITUACIÓN: Madrid. España
FECHA:2009
TIPO:ETFE
FUNCIÓN:<br>Cultural
SUPERFICIE:50m2
GEOMETRÍA:Sinclástica Y Anticlástica
DESCRIPCIÓN:Cubierta presostática de ETFE transparente impreso bajo lucernario del monumento a las víctimas del 11M: desmontaje, reparación y sustitución parcial, reinstalación
ARQUITECTURA:FAM
INGENIERÍA:SCHLAICH
CONSTRUCCIÓN:Hightex+Bat Spain